| 제목 | 금속 박막의 플라즈마 식각 장치 및 금속 박막의 플라즈마 식각 방법(APPARATUS FOR PLASMA ETCHING A METAL LAYER AND METHOD OF PLASMA-ETCHING A METAL LAYER) | ||
|---|---|---|---|
| 출원번호 | 10-2016-0067528 | 출원일자 | 2016-05-31 |
| 등록번호 | 등록일자 | 0000-00-00 | |
| 발명자 | 홍문표 | 장진녕 | 김보성 | 출원인 | 고려대학교 세종산학협력단 |
| 기술 내용 | 금속 박막의 플라즈마 식각 장치는, 플라즈마 식각 공정이 수행되는 처리 공간을 제공하는 공정 챔버, 상기 처리 공간 내에 배치되며, 대상체를 지지하는 지지부, 상기 공정 챔버과 연결되며, 상기 처리 공간으로 공정 가스를 공급하는 가스 공급부, 상기 공정 챔버의 상부에 배치되며, 상기 처리 공간내에 공급되는 공정 가스를 플라즈마화 시키는 선형 ECR 플라즈마 소스 모듈 및 상기 선형 ECR 플라즈마 소소 모듈의 상부에 배치되며, 상기 대상체를 향하여 방사광을 조사하여 상기 플라즈마 식각 공정 중 발생하는 식각 부산물을 기화시킬 수 있도록 구비된 방사광 소스 모듈을 포함하며, 플라즈마 식각 공정에서 발생하여 기화된 식각 부산물을 상기 공정 챔버의 외부로 배기시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 금속 박막의 플라즈마 식각 방법을 포함한다. | ||
