제목 산화물 반도체 소자 및 이의 제조 방법(OXIDE SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR FABRICATING THE SAME)
출원번호 10-2014-0168445 출원일자 2014-11-28
등록번호 10-1562932 등록일자 2015-10-19
발명자 김현재 | 김영규 | 박지훈 | 윤석현 | 홍성환 출원인 연세대학교 산학협력단
기술 내용 본 발명은 산화물 반도체 소자 및 이의 제조 방법에 관한 것으로, 본 발명의 일 실시 예에 따른 산화물 반도체 소자는, 기판; 상기 기판상의 산화물 반도체층;을 포함하고, 상기 산화물 반도체층은 두께 방향으로 산소 공공(oxygen vacancy)의 농도가 상이할 수 있다.
게시판 이전글 화살표 이전글 전계 방출 소자, 페이스트 제조방법 및 박막 형성방법(FIELD EMITTER DEVICE, METHOD FOR FABRICATING PASTE, AND METHOD FOR FORMING THIN FILM)
게시판 다음글 화살표 다음글 산화물 박막 후처리 방법, 및 그를 이용한 반도체 소자 제조 방법(METHOD FOR POST-TREATING OXIDE THIN FILM, AND METHOD FOR FABRICATING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME)