| 제목 | 산화물 박막 형성용 용액 조성물 및 상기 산화물 박막을 포함하는 전자 소자(SOLUTION COMPOSITION FOR FORMING OXIDE THIN FILM AND ELECTRONIC DEVICE INCLUDING THE OXIDE THIN FILM) | ||
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| 출원번호 | 10-2010-0026314 | 출원일자 | 2010-03-24 |
| 등록번호 | 10-1664958 | 등록일자 | 2016-10-05 |
| 발명자 | 선종백 | 김현재 | 이상윤 | 류명관 | 신현수 | 박경배 | 정웅희 | 김건희 | 안병두 | 출원인 | 삼성전자주식회사 | 연세대학교 산학협력단 |
| 기술 내용 | 아연을 함유하는 제1 화합물, 인듐을 함유하는 제2 화합물 및 마그네슘을 함유하는 제3 화합물을 포함하는 산화물 박막 형성용 용액 조성물과 상기 용액 조성물로부터 형성되며 아연, 인듐 및 마그네슘을 포함하는 산화물 반도체를 포함하는 전기 소자를 제공한다. 또한 아연을 함유하는 제1 화합물, 인듐을 함유하는 제2 화합물 및 하프늄을 함유하는 제3 화합물을 포함하고, 상기 아연과 상기 하프늄의 원자수 비율이 1:0.01 내지 1:1인 산화물 박막 형성용 용액 조성물 또한 제공한다. | ||
