| [논단] 2019년 11월 1일 시행 개정 대만 특허법 |
| 등록일 : 2019.09.06 │ 조회수 : 6,149 |
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첨부파일 : Tai E - Amendments to Taiwan Patent Act 1908A.PDF |
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2019년 11월 1일 시행 개정 대만 특허법
특허법인 유일하이스트
김은구변리사 2019년 9월 4일 본 자료는 대만특허사무소 Tai E international Patent & Law Office가 보내준 자료를 기초로 정리한 것입니다. 자세한 내용은 대만특허사무소의 첨부자료를 참조하세요. 1.분할출원의 기간 연장 대만특허법 제34조 제2항 및 107조 제2항에 따라 특허결정 후 3개월 이내에 분할출원 가능합니다. 3개월 이내에 특허등록료를 납부하더라 3개월 이내라면 분할출원할 수 있다고 합니다. 반면에, 한국특허법은 특허등록료를 납부하면 그 이후에 분할출원할 수 없습니다. 2. 무효심판 자료의 제출 제한 대만특허법 제73조 제4항에 따르면, 무효심판 청구인은 무효심판 청구서를 제출할 날로부터 3개월 이내에 구체적인 무효사유 또는 그 증거를 제출해야 합니다. 만약 이 기간 내에 구체적인 무효사유 또는 그 증거를 제출하지 않으면 그 무효사유가 검토되지 않습니다. 3. 실용신안의 등록 후 정정 제한 대만특허법 제118조에 따르면, 실용신안등록 후 (1)실용신안등록에 대한 기술평가신청(request for technical evaluation report)가 계류중인 경우, (2)실용신안등록을 포함하는 소송사건이 계류 중인 경우에만 정정을 신청할 수 있습니다. 4. 디자인특허의 존속기간 대만특허법 제135조에 따르면, 디자인특허의 존속기간은 출원일로부터 15년으로 존속기간이 연장되었습니다. 한국은 특허법과 디자인법으로 나누어져 있는데, 대만은 특허법에서 특허와 실용신안, 디자인을 모두 포함하고 있습니다. 5. 경과규정(Transitional Provision) 개정조문에 대한 경과규정들이 있으나 생략하겠습니다. 대만특허사무소가 정리한 내용 중에 분할출원의 경과규정이 특이하니 분할출원의 경과규정만 그림으로 살펴보겠습니다. 그림에서 녹색으로 표시한 부분만 분할출원을 할 수 있습니다.  |
